Leica Microsystems Coater sous vide EM ACE200 pour préparation d’échantillons

Leica EM ACE200 Avacuum Coater Sputter Coating incl. Adixen Vacuum Pump Le EM ACE200 réalise des dépôts conducteurs par pulvérisation cathodique afin de préparer des spécimens destinés à l’observation en microscopie électronique. L’équipement accepte plusieurs matériaux de revêtement , notamment cuivre, or, or-palladium, nickel, platine, platine-palladium et argent. Le dépôt peut être ajusté entre 1 et 100 nm d’épaisseur avec un temps de traitement réglable de 1 à 999 secondes. Le système fonctionne avec un courant de pulvérisation de 20 à 150 mA et une distance de travail comprise entre 30 et 100 mm , permettant d’adapter les conditions de dépôt aux exigences analytiques des échantillons. L’appareil permet également la production de films carbone grâce à un fil carbone en quatre sections . Deux méthodes de génération sont disponibles : mode Pulse et mode Flash , permettant de moduler la formation du film selon les besoins de préparation. Le dépôt peut atteindre plus de 30 nm d’épaisseur avec un nombre d’impulsions réglable de 1 à 60 ou 1 à 4 flashes. La génération carbone peut atteindre 340 W de puissance d’impulsion, avec un courant maximal de 40 A et des tensions de 14 ou 18 V, assurant une formation contrôlée du film sur la surface des échantillons. Le suivi du dépôt repose sur une mesure d’épaisseur par quartz avec résolution de 0,1 nm et cristal de 6 MHz, permettant une observation précise de la croissance du film. Le système inclut également une fonction de décharge luminescente avec courant de décharge de 5 à 15 mA et durée réglable de 1 à 999 secondes pour le traitement de surface. Le procédé utilise argon de pureté 99,99 % à 0,5 bar comme gaz de processus et une ventilation par air. L’ensemble est piloté par panneau tactile intégré, permettant la gestion directe des paramètres et des cycles de fonctionnement en laboratoire.